Equipment

제품명 | 설명 |
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Piezocon Sensor |
Piezocon Sensor는 CVD 및 MOCVD 공정에서 사용되는 Process gas와 Chemical source의 공급량을 조절하여 Process chamber 내 Molecular 양을 일정하게 공급 유지하게 함으로써 향상된 수율을 제공합니다. |
Precision Gas Mixing System |
Mixing gas를 사용자가 원하는 목표 농도로 Mixing 및 Tank에 저장 후 공급하고, Mixing 된 Gas의 농도 재현성을 Cylinder Gas 를 사용하는 것보다 더 향상시킵니다. (저농도 Mixing용) 주요 사용 공정은 EPI 공정이며, Dopant Gas Mixing용으로 사용됩니다. |
Apex Gas Mixing System |
Apex Gas Mixing System을 사용하여 Mixing gas의 농도를 높은 정밀도로 유지 관리하게 하고, Mixing gas의 대량 생산을 통해 Cylinder gas를 사용할 때 보다 생산 비용 절감 효과가 우수합니다. 주요 사용 공정은 반도체 및 LED 공정의 고농도 혼합가스 Mixing 용으로 사용됩니다. |
스펙이나 가격 등 기타 자세한 사항은 이메일을 통한 견적 문의 바랍니다
Apex Gas Mixing System
대용량의 정밀한 Gas Mixing System을 위한 완벽한 솔루션
검증 된 Veeco의 Piezocon Sensor가 탑재된 Apex Gas Mixing System은 사용자가 저렴한 비용의 고농축 가스를 구입 한 다음
사용 현장에서 원하는 저농도 가스로 희석하여 사용할 수 있으므로 혼합가스 구매 비용을 기존 구매 비용의 60%로까지 절감하게 됩니다.
Apex System은 내부에 2개의 Piezocon Sensor을 사용하여 실시간으로 혼합 가스의 농도를 측정하고 정밀하게 제어함으로써 안정적인이고 지속적인 가스 공급으로
보다 높은 공정 설비 가동 시간을 이끌어 낼 수 있으며, Gas Cylinder 교체 후 진행하는 Process qualification을 받을 필요가 없어 비용 절감 효과가 우수합니다.
Apex System의 최대 장점은 Gas Mixer의 실시간 제어, 고정밀도 및 재현성을 구현하여 반도체 제조업체의 품질 및 수율 향상의 효과가 있습니다.
- 저농도, 고정밀도 및 비용에 민감한 가스 혼합물을 요구하는 어플리케이션에 최적화
- Gas Cylinder와 비교했을 때 혼합 가스의 반복성이 10배 이상 개선됨
- 공정 설비의 재인증 및 테스트 시간을 줄임으로써 공정 설비 가동시간을 늘림
- 즉시 가스 구매비용을 최대 60%까지 절감
- 반도체, LED 등을 포함한 다양한 응용 분야에 기존 설치 기반과 원활하게 통합 가능
- ppm 레벨의 제어를 위해 Veeco의 Piezocon Sensor를 사용하는 유일한 가스 혼합 시스템
번호 (No) |
설명 (Description) | 사양 (Specification) |
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1 | Inlet Gas #1 | 10% B2H6, GeH4 |
2 | Inlet Gas #2 | H2 5 N |
3 | Accumulator Tank | 100L (50L * 2) |
4 | Output gas concentration range | 1 ~ 5% |
5 | Output gas concentration repeatability | ± 0.1% (absolute range) |
6 | Output flow rate (average) | 0 ~ 8 slpm |
7 | Output pressure | 55~65 psig |
8 | Input source gas pressure | 110 ~ 120psig |
9 | Inlet to supply pressure drop | 40 ~ 50 psig |
10 | Operation voltage | 110~240VAC, 6A, 1Phase |
11 | PZC sensor | 2 sensor installed |
12 | Fab communications | Modbus TCP |
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APEX