Equipment

제품명 | 설명 |
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Piezocon Sensor |
Piezocon Sensor는 CVD 및 MOCVD 공정에서 사용되는 Process gas와 Chemical source의 공급량을 조절하여 Process chamber 내 Molecular 양을 일정하게 공급 유지하게 함으로써 향상된 수율을 제공합니다. |
Precision Gas Mixing System |
Mixing gas를 사용자가 원하는 목표 농도로 Mixing 및 Tank에 저장 후 공급하고, Mixing 된 Gas의 농도 재현성을 Cylinder Gas 를 사용하는 것보다 더 향상시킵니다. (저농도 Mixing용) 주요 사용 공정은 EPI 공정이며, Dopant Gas Mixing용으로 사용됩니다. |
Apex Gas Mixing System |
Apex Gas Mixing System을 사용하여 Mixing gas의 농도를 높은 정밀도로 유지 관리하게 하고, Mixing gas의 대량 생산을 통해 Cylinder gas를 사용할 때 보다 생산 비용 절감 효과가 우수합니다. 주요 사용 공정은 반도체 및 LED 공정의 고농도 혼합가스 Mixing 용으로 사용됩니다. |
스펙이나 가격 등 기타 자세한 사항은 이메일을 통한 견적 문의 바랍니다
Precision Gas Mixing System
Veeco의 Precision Gas Mixing System은 사용자의 엄격한 공정 관리와 높은 수율 향상을 위해 혼합 가스의 정밀한 농도 제어로 고품질의 저농도 혼합 가스를 생산합니다.
고농도 Premix gas의 농도를 실시간으로 모니터링하고 능동적인 제어를 통해 고농도 Premix gas의 농도 변화나 변동을 보상합니다.
예를 들어, 1%의 고농도 Dopant gas를 사용하여 오차 범위 ±0.5ppm 이내로 관리된 50ppm의 저농도 Dopant gas를 생성할 수 있습니다.
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비용절감 : 고농도의 Premix gas를 희석하여 저농도 혼합가스를 생산하고 지속적으로 공급할 수 있어 설비의 가동 중단 시간을 최소화 하고,
저농도 혼합가스 Cylinder의 구매 비용을 줄여 높은 비용절감 효과를 가져다 줌 - 다용도 : 일반적으로 반도체, LED 공정에서 사용되는 Precursor Chemical 또는 Dopant gas 혼합물을 사용할 수 있음
- 재고관리 : 설비 엔지니어가 다양한 농도의 가스 혼합물의 재고를 줄일 수 있음
- 사용 편의성 : 사용하기 편한 인터페이스로 혼합 가스 및 희석 가스를 선택하고 공정에서 요구하는 농도를 즉시 설정할 수 있음
번호 (No) |
설명 (Description) | 사양 (Specification) |
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1 | Inlet Gas #1 | 1% B2H6, PH3 |
2 | Inlet Gas #2 | H2 5 N |
3 | Accumulator Tank | 7L |
4 | Output gas concentration range | 30 ~ 70ppm |
5 | Output gas concentration repeatability | ± 0.5% (absolute range) |
6 | Output flow rate (average) | 0 ~ 4 slpm |
7 | Output pressure | 55~65 psig |
8 | Input source gas pressure | 110 ~ 120psig |
9 | Inlet to supply pressure drop | 40 ~ 50 psig |
10 | Operation voltage | 110~240VAC, 6A, 1Phase |
11 | PZC sensor | 1 sensor installed |
12 | Fab communications | Modbus TCP |
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GMS