Parts

MYCROPORE Corporation Ltd.

마이크로포어는 차세대 반도체와 디스플레이를 비롯해서 일반 산업현장과 물 여과공정에 필요한 특허받은 제품군, 맴브레인,
필터 미디어와 여과 장치를 개발해왔습니다. 개발된 제품은 당사 전문가들의 열정과 항상 아래의 항목을 기반으로
완성되어 왔습니다. (· 여과 비용 절감 · 압력손실의 최소화 · 파티클 여과 성능 · 에너지 절감 · 케미컬 절감) 마이크로포어의
제품과 기술은 산업현장의 그 어느 제품보다 경쟁력을 갖고 있으며 고객사의 전략적 파트너로서 오랜 경험을 바탕으로 요구하는
공정에 최적화된 제품을 제안드립니다.
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Mycropore's 인증마크
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Mycropore's 수상내역
제품포트폴리오

Chemical Mechanical Polishing (CMP) Slurry Filtration


Facility Delivery System/Slurry Manufacturing
SlurriGard™-N, PS, DUO Cartridge Filter
SlurriGard™-N, PS, DUO Disposable Filter
SlurriGard™-N, PS, DUO Cartridge Filter
- 특징 : Low particle & fiber shedding, Low metal extractable
- 장점 : Process improvement, Cost Reduction
- 추가사항 : 0.05um, 0.07um, 0.1um, 0.2um, 0.3um, 0.5um, 0.7um, 1um, 3um, 5um, 7um, 9um
- 선택사항 : Standard, Preflushed/Dry or Patented IPWetTM Technology
SlurriGard™-N, PS, DUO Disposable Filter
- 특징 : Improves particle retention, Faster start-up, Slurry savings
- 장점 : Process improvement, Cost Reduction
- 추가사항 : 0.05um, 0.07um, 0.1um, 0.2um, 0.3um, 0.5um, 0.7um, 1.0um, ECX2-5”-PD, ECX2-5”, ECP, EC2L-10”
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선택사항 : Standard, Preflushed/Dry or Patented IPWetTM Technology
- SlurriGardTM 필터는 차세대 CMP (chemical mechanical polishing) 공정을 위한 Pre-cleaned CMP 슬러리 필터입니다.
- 슬러리 공정을 위한 최적화된 Media design : SlurriGardTM 시리즈 필터는 CMP 공정에 필요한 슬러리내 존재하는 Aggregate, Agglomerate and Microgels 과 같은 파티클을 제거합니다.
여과 이후에도 슬러리 사이즈 분포는 변하지 않습니다.
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0.5um 이상의 N 시리즈 필터 는 5~8 층의 마이크로 섬유 미디어로 이루어져 있으며 큰 여과 용량과 훌룡한 Filtration CUT OFF Curve를 보여줍니다.
반면 0.5um 이하의 필터는 Colloidal 및 Ceria 슬러리에 적합한 나노 섬유 미디어로 이루어져 있어 파티클 여과 성능이 매우 높습니다.
- DUO 시리즈중 DUO 3 Version은 두가지의 Media design을 채택하여 하나의 필터내에 구현한 제품으로 Patented design, 3D MB upstream + Nano Fiber wrapped media downstream
미디어로 이루어져 있으며 다양한 슬러리에 적용 가능합니다.
- 0.5um 이하의 Pore size 에서는 Patented Pre-Wet process 가 적용된 필터를 통해 보다 빠른 가동에 따른 가동률 증가, 슬러리 절감, 향상된 여과 성능을 확인하실 수 있습니다.