MYCROPORE Corporation Ltd.

마이크로포어는 차세대 반도체와 디스플레이를 비롯해서 일반 산업현장과 물 여과공정에 필요한 특허받은 제품군, 맴브레인,
필터 미디어와 여과 장치를 개발해왔습니다. 개발된 제품은 당사 전문가들의 열정과 항상 아래의 항목을 기반으로
완성되어 왔습니다. (· 여과 비용 절감 · 압력손실의 최소화 · 파티클 여과 성능 · 에너지 절감 · 케미컬 절감) 마이크로포어의
제품과 기술은 산업현장의 그 어느 제품보다 경쟁력을 갖고 있으며 고객사의 전략적 파트너로서 오랜 경험을 바탕으로 요구하는
공정에 최적화된 제품을 제안드립니다.

Megasonic Cleaner or Dilute HF Buffered Oxide Etch
BuffaEtch - HP /HPX

• 특징 : Highly asymmetric PES with PP support
• 장점 : Excellent retention, Excellent flow, Hydrophilic, High purity
• 추가사항 : Cartridge Filter 0.05um, 0.1um Available in 20nm

BOE(Buffered Oxide Etch) cleaning 과 Dilute HF recirculation bath 공정용 DUO-Retention 매카니즘 적용 DI Wafer cleaning

• 최적화된 HAPS 비대칭 Polysulfone 고유량, 저압 맴브레인은 10nm 까지의 sieving과 absorption 파티클 여과성능 매카니즘을 제공합니다.
• BuffaEtch™ 필터는 20나노 공정의 요구에 신뢰성있게 적용할 수 있습니다.

Pre-wetting과 마이크로 버블 제거에 따른 down time 최소화

• BuffaEtch™ 시리즈는 친수성이며 Pre-wetting 없이 Process up time을 최대화 할 수 있습니다.
• 초순수 DI를 이용한 Pre-flushed 제품으로 빠른 Rinse up time을 제공합니다.

HAPS Membrane

• Polyethylene에 비해 강한 친수성을 갖고 있습니다. 완전 Wetting이 되므로 나노공정에서 중요시되는 마이크로버블을 적절히 제거합니다.

고유량

• Minano™ HAPS 비대칭 polysulfone 맴브레인을 적용하여 산업에서 요구되는 고유량 filtration이 가능합니다.

Dilute HF Filter
DiluEtchGardTM - HP / HPX

• 특징 : Highly asymmetric PES hydrophilic membrane with HDPE support
• 장점 : Retention up to 10nm particles, High flow, Low pressure drop, Meets demand of 20nm technology node
• 추가사항 : Cartridge Filter 10nm, 20nm, 30nm, 50nm

Chemical Delivery System
All Teflon® Filter - Aggressive & High Temperature Applications,
FluoroFlo - II AT / ATX / AT2 / AT3*

• 특징 : All PTFE membrane with PFA support
• 장점 : Broad chemical compatibility, PreWet version available, High flow, Long lifetime, Low pressure drop
• 추가사항 : Cartridge Filter 30nm 0.05um, 0.1um

고유량, 저압은 물론 최적화된 80~95% 다공과 균일한 포어사이즈 분포및 여과면적
순도 성능 유지를 위해 표면 변형이나 후처리 및 첨가물질 사용은 하지 않습니다.

• Chemical Delivery System / Solvent / Electronic chemical Filtration
• SC1, SC2, RCA Clean / Photo-resist stripper Filtration
• Ozone and aggressive chemical

ST-2xx Stripper Filter
BuffaEtch -II HP / HPX

• 특징 : Highly asymmetric PES hydrophilic membrane with PP support
• 장점 : Retention up to 10nm particles, High flow, Low pressure drop, Meets demand of 20nm technology node
• 추가사항 : Cartridge Filter 0.05um